Vakuum Magnetron Sputtering Technik ass d'Benotzung vun der weiblecher, bipolare Elektroden Uewerfläch mat dem Magnéitfeld vum Elektron an der Kathode Uewerfläch Drift, andeems d'Zielfläch elektresch Feld senkrecht zum Magnéitfeld setzt, den Elektron erhéicht de Schlag, erhéicht den Ioniséierungsquote vum Gas, iwwerdeems d'Héich-Energie Deelchen Gas an Energie verléieren no der Kollisioun an sou niddereg Substrat Temperatur, komplett Beschichtung op engem Net-Temperatur resistent géint Material.