Inline Magnetron Sputtering System
Inline Magnetron Sputtering Beschichtungsmaschinn ass haaptsächlech DC (oder MF) Magnetron Sputtering Beschichtung kann op eng breet Palette vun Ziler ugepasst ginn, wéi: Kupfer, Titan, Chrom, Edelstol, Néckel an aner Metallmaterialien déi mat engem Sputterprozess beschichtet kënne ginn kann Film Adhäsioun, Reproduzéierbarkeet, Dicht, Uniformitéit an aner Charakteristiken verbesseren.
- a.Basis Charakteristiken a Parameteren
- b.horizontal Linn Struktur kann gläichzäiteg Beschichtete op enger Säit realiséiert ginn
- c.Produktiounseffizienz, déi schnellsten Geschwindegkeete vu bis zu 1 min / Schlag
- d.modulare Design, einfach Ënnerhalt
- e.Plating Prozess Reife, héich nozeginn
- f.DC magnetron sputtering cathodes kann je Client Ufuerderunge variéieren
- g.Vakuum System besteet aus enger mechanescher Pompel, Roots Pompelen, Diffusioun Pompelen (molekulare Pompel) Zesummesetzung
- h.Linn Kierper Gréisst kann je Client Ufuerderunge variéieren
- 1) D'Vakuum Chamber Kierper Materialien benotzt SUS304, poléieren engem Vakuum Chamber Mauer Behandlung, de baussenzege Mauer Spraydousen poléieren Perlen Veraarbechtung.
- 2) Mat engem onofhängege Paartventil tëscht der Vakuumkammer - Flapperventil ausser, kann effektiv ofgeschnidden ginn, de Prozessgas stabiliséieren.De Moment adoptéiert eis Firma de Flapperventil Design, et versiegelt besser, méi haltbar wéi den aktuellen Hausgemeinsame Klappeventil.
- 3) Transmissioun benotzt magnetesche Guide, schützt d'Stabilitéit vum Drive.Fir all Vitesse vun der ganzer Produktioun Linn benotzt VVVF Motor fueren, Lafen Vitesse kann ugepasst ginn.
- 4) Elektresch Kontrollsystem: Touchscreen a PLC automatesch Kontroll, Mann-Maschinn Dialog fir den Datedisplaysystem, Operatiounsparameter a Kontrolltechnologie z'erreechen
- 1) Ultimate Vakuum Drock: 6 × 1 0E-4 Pa
- 2) den duerchschnëttleche Produktiounszyklus: no dem bestëmmte Produkt
- 3) De Substrathalter Gréisst: ka personaliséiert ginn no den Ufuerderunge vum
- 4) Filmuniformitéit: ± 3% fortgeschratt mobil Feldtechnologie huet d'Zielverbrauch staark verbessert
- Segmentéiert Heizungsdesign ass förderlech fir Prozessoptimiséierung.
Schreift Äre Message hei a schéckt en un eis
